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UV光解氧化處理器

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UV光解氧化處理器


  • UV光解氧化處理器

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UV光解氧化處理器


1.工業廢氣處理設備利用特製的高能高臭氧UV紫外線光東照射惡臭氣體,裂解惡臭氣體如:氨、三甲胺、硫化氫、甲硫氫、甲硫醇、甲硫醚、二甲二硫、二硫化碳和苯乙烯,硫化物H2S、VOC類,苯、甲苯、二甲苯的分子鏈結構,使有機或無機高分子惡臭化合物分子鏈,在高能紫外線光束照射下,降解轉變成低分子化合物,如CO2、H20等。

利用高能UV光束裂解惡臭氣體中細菌的分子鍵,破壞細菌的核酸(DNA),再通過臭氧進行氧化反應,徹底達到脫臭及殺滅細菌的目的。

2.利用高能高臭氧UV紫外線光束分解空氣中的氧分子產生遊離氧,即活性氧,因遊離氧所攜正負電子不平衡所以需與氧分子結合,進而產生臭氧。活性氧+臭氧,眾所周知臭氧對有機物具有極強的氧化作用,對惡臭氣體及其它刺激性異味有立竿見影的清除效果。

3.納米光催化劑TiO2在特定波長的光的照射下受激生成“電子一空穴”對(一種高能粒子),這種電子一空穴”對和周圍的水、氧氣發生作用後,就具有了極強的氧化一還原能力,能將空氣中醛類、烴類等汙染物直接分解成無害無味的物質,以及破壞細菌的細胞壁,殺滅細菌並分解其絲網菌體,從而達到了消除空氣汙染的目的。

4.惡臭氣體利用收集排風設備輸入到本淨化設備後,淨化設備運用高能UV紫外線光束、臭氧03及納米光催化tio2等技術組合起來對廢氣進行協同分解氧化反應,使廢氣降解轉化成無害無味化合物、水和二氧化碳,再通過排風管道排出。產品性能參數:(兩組UV/03高能光解廢氣淨化模塊+一組光催化過濾廢氣淨化除臭模塊)

催化廢氣處理設備模塊設計、靈活簡便:充分考慮了各類廢氣性質的不穩定性和複雜性,從工程的設計、配套、安裝、調試、維護等方麵提供了極大的可行性、可靠性和靈活性。

根據收集廢氣排風量、風速及廢氣濃度的大小,靈活配置廢氣UV淨化模塊的個數,淨化處理有效率高。

采用抽屜式插拔安裝形式,配件統一、安裝及維護方便。備件可在線維護或更換,方便靈活、操作簡便,實用有效。

安全可靠、適應性強:因采用光解原理,模塊采用隔爆處理,消除了安全隱患,防火、防爆、防腐性能好(全不鏽鋼304#結構),設備性能安全穩定。

通過合理的模塊配置,可廣泛應用於各類有機廢氣、惡臭氣體淨化處理:本設備無任何機械裝置,無運動噪音,可每天24小時連續工作。除定期檢查維護外,無需專人管理和操作,維護和能耗成本低,淨化處理效果優於國家標準。


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